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MLase MLI 500 ArF SP LC

2026年02月11日 13:13:52 人气: 391 来源: 北京汉达森机械技术有限公司

德国MLase MLI 500 ArF SP LC准分子激光器:工业紫外光源的精密动力核心

在光纤布拉格光栅(FBG)刻写、半导体掩膜检测、精密微加工等工业与科研领域,稳定可靠的深紫外(DUV)激光光源是实现高精度制造与测量的重要基础。德国MLase公司出品的MLI系列准分子激光器,是适配此类严苛应用的高性能光源;其中型号为MLI 500 ArF SP LC的设备,整合波长特性、功率稳定与工业级可靠性,成为复杂工业流程中的核心配套单元。

产品核心:定制化ArF紫外光源

该设备是采用氟化氩(ArF)作为工作气体的准分子激光器,输出波长为193纳米的深紫外光。其型号代码“500”代表标准重复频率为500赫兹,“LC”表明此型号配备主动液体冷却系统,可实现稳定、连续的长时间运行;后缀“SP”指向特定的定制化配置,例如特殊脉冲模式或硬件接口。整机采用紧凑化、模块化设计,可在标准型号基础上根据个性化需求进行调整。

核心技术规格与性能

参数类别技术规格
波长与气体类型193 nm,氟化氩 (ArF) 气体
重复频率max 500 Hz
脉冲能量(稳定)6 mJ
平均输出功率3.0 W
脉冲稳定性 (Sigma)≤ 2%
光束尺寸 (FWHM)6 x 3 mm
光束发散角2 x 1 mrad
核心冷却方式主动水冷(可使用生活用水或外部热交换器)

关键技术优势

该系列激光器具备良好的工业可靠性,拥有较长的正常运行时间与较低的运行成本,内部采用固体开关技术,相较于传统闸流管开关,使用寿命更长、维护需求更低。同时具备优异的能量与光束稳定性,稳定的脉冲能量输出和均匀的光束轮廓,可确保加工结果具有良好的一致性与重复性,脉冲能量稳定度(标准差)控制在2%以内,能够为微米级工艺提供可靠保障。此外,“LC”型号集成的主动水冷系统,允许直接使用普通生活用水进行冷却,无需复杂的去离子水循环系统,大幅简化集成难度,提升工业现场长时间连续工作的热管理能力。

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核心应用领域

光纤布拉格光栅(FBG)刻写是其核心应用方向之一,可为光纤传感器和通信器件制造提供高质量光源;在半导体与显示制造领域,可用于光刻掩膜版(Reticle)的缺陷检测,以及微光学元件、TFT等精密结构的加工与划线;在材料加工方面,适配陶瓷、玻璃、聚合物及复合材料的精密微钻孔、切割与表面结构化处理;同时也可作为脉冲激光沉积(PLD)的适配光源,用于制备高温超导、光学等多种功能薄膜,满足科学研究与薄膜制备的应用需求。

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